Souhrn
Administrativa Donalda Trumpa schválila investici až 150 milionů dolarů do startupu xLight, který se zaměřuje na vývoj volně elektronových laserů pro pokročilou litografii v výrobě polovodičů. Tato technologie by měla umožnit tvorbu rychlejších čipů a snížit závislost USA na nizozemské firmě ASML. Jedná se o nejslavnější krok Úřadu pro výzkum a vývoj v rámci CHIPS Act po změně vlády.
Klíčové body
- Americké ministerstvo obchodu podepsalo neviazoucí předběžnou dohodu o poskytnutí incentivů v hodnotě až 150 milionů dolarů.
- xLight vyvíjí lasery na bázi volných elektronů z technologie urychlovačů částic pro extrémně ultrafialovou litografii (EUV).
- Investice je první po převzetí správy 7,4 miliardy dolarů velkého polovodičového výzkumného institutu z Bidenovy éry.
- Cílem je posílit domácí výrobu čipů a konkurovat monopolnímu postavení ASML v EUV strojích.
- Startup Substrate a další se pokoušejí o podobné technologie, ale xLight staví na unikátním přístupu.
Podrobnosti
V pokročilé výrobě polovodičů je nejkritičtějším nástrojem extrémně ultrafialová litografická zařízení (EUV lithography machine), které tiskne vzory čipů na křemíkové pláty. Aktuálně je jediným dodavatelem těchto strojů nizozemská společnost ASML, jejíž vybavení je nezbytné pro výrobu nejpokročilejších čipů s taktními frekvencemi pod 3 nanometry, jako jsou ty od TSMC nebo Intelu. Klíčovou součástí těchto strojů je laser schopný generovat extrémně krátké vlnové délky světla, což umožňuje precizní struktury na atomární úrovni.
Startup xLight, založený v San Franciscu, navrhuje revoluční řešení: volně elektronové lasery (free-electron lasers), které vycházejí z principů urychlovačů částic, jako jsou lineární urychlovače elektronů používané v CERNu nebo národních laboratořích. Tyto lasery by měly produkovat koherentní světlo s ještě kratší vlnovou délkou než současné laser-plazmové systémy v ASML strojích, což by umožnilo litografii pro čipy pod 1 nm. Na rozdíl od konvenčních laserů nevyžadují pevné krystaly, což zvyšuje efektivitu a škálovatelnost.
Americké ministerstvo obchodu oznámilo 1. prosince podepsání neviazoucí předběžné listiny záměru (letter of intent) prostřednictvím svého Úřadu pro výzkum a vývoj CHIPS (CHIPS Research and Development Office). Tento úřad nyní spravuje 7,4 miliardy dolarů z Bidenova CHIPS and Science Act, který měl posílit americkou konkurenceschopnost v polovodičích proti Číně. Investice do xLight je prvním krokem nové administrativy a nevyzrazuje velikost podílu vlády, ale slouží jako incentiv k vývoji. Podobné snahy podnikají i další startupy, jako Substrate, které cílí na konkurenční EUV systémy, ale xLightův přístup s urychlovači částic je považován za nejinovativnější díky potenciálu pro vyšší výkon.
Tato technologie by se použila v litografických strojích pro masovou výrobu čipů pro AI akcelerátory, servery a spotřební elektroniku. Bez domácí alternativy k ASML jsou USA závislé na exportních licencích, což komplikuje dodávky pro Nvidia nebo AMD.
Proč je to důležité
Tato investice posiluje strategickou nezávislost USA v polovodičovém průmyslu, který je základem pro AI, datová centra a vojenské aplikace. Rychlejší čipy umožní pokroky v tréninku velkých jazykových modelů (LLM) a autonomních systémech, kde současné limity litografie brzdí škálování. V širším kontextu CHIPS Act, který už přitáhl stovky miliard do fabrik TSMC a Intelu, to signalizuje urychlení domácího výzkumu proti asijské dominanci. Pokud xLight uspěje, mohlo by to narušit ASML monopol a snížit náklady na EUV stroje, které stojí přes 200 milionů dolarů za kus. Rizika zůstávají vysoká – technologie urychlovačů je energeticky náročná a dosud nepoužitá v průmyslu – ale úspěch by urychlil Mooreův zákon do éry subnanometrových čipů.
Zdroj: 📰 CNA
| 